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首页 >> 产品展示 >> inficon薄膜沉积控制产品（晶控仪）

SQC-310 薄膜沉积控制器

薄膜沉积控制仪

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高精度连续镀膜控制或共镀膜控制 凭借先进的技术、完善的显示和实惠的价格，INFICON SQC-310 系列提供同类膜厚控制仪无法企及的优势。可以选择适合您应用的理想型号：连续镀膜 (SQC-310) 或共镀膜 (SQC-310C)。
XTC/3薄膜沉积控制器

薄膜沉积控制仪

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技术先进，经济实惠，可对单层或多层薄膜进行速率控制 立即了解用于单层和多层过程的薄膜沉积控制器的详细信息。XTC/3 带有专利 ModeLock，提供跳模预防功能，确保获得始终如一的质量。使用 XTC/3 薄膜沉积控制器，您可以高度精确地控制沉积速率和厚度，获得几乎适用于所有层的容量，而且控制器安装简便，具有极高可靠性，可确保高生产力。 INFICON 是薄膜沉积控制领域的全球领导者，现在提供的这款仪器具有极低的拥有成本，可为客户带来空前的价值。 无论您需要的是生产、研发还是开发方面的控制，您都将发现 INFICON XTC/3 能够完美满足您的需求。 全球 INFICON 支持 无论您身在何处，都可获得快速回复、贴心服务以及最长运行时间。INFICON 是唯一一家在全球设有本地服务与技术支持中心的薄膜沉积控制器制造商，其办事处遍布全球。
IC6 薄膜沉积控制器

薄膜沉积控制仪

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不变的是卓越的表现 功能丰富的 IC6 提供提供最佳测量精度 IC6 薄膜沉积控制器在 INFICON 薄膜沉积控制器可靠成熟的性能基础上，增添了更多独特的功能，可帮助您实现沉积过程的最大价值。IC6 使用我们的 ModeLock 频率测量系统，提供稳定、高分辨率的速率和厚度测量，速率分辨率可达每 1/10 秒 0.00433 Å/s，是行业中的佼佼者。IC6 具有其他石英晶体控制器无法比拟的性能、品质和功能，赋予您的过程卓越的可重复性。
石英晶振片

晶振片

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<h3 style="FONT-SIZE: 15px">用于真空应用的石英监控器晶体</h3>石英晶体是 QCM 系统中的速率和厚度传感元件。这些晶体用于所有标准 INFICON 监控器或控制器以及 INFICON（或其他制造商的）单、双或多晶体传感器的真空应用。   INFICON 推出各种晶体和包装，可随时为您提供所需的晶体。
前载式单探头

石英晶体探头和馈入件

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INFICON 前装式单晶体传感器拥有经实践检验的可靠性和耐用性，提供超越当前市场上的任何传感器头的最佳热稳定性。前装式设计允许在侧面插入空间不足的应用中轻松插入晶体支架。经机械装配而成，而不是焊接在一起，因此，您能够在现场方便地更换其部件（如有必要）。传感器可单独订购，或以传感器/馈入件组合的形式订购，该组合可焊接在一起，或通过压缩接头装配在一起。
SQM-160 薄膜沉积监控器

薄膜沉积监测仪

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SQM-160 薄膜沉积监控器SQM-160 使用成熟的 INFICON 石英晶体传感器技术在薄膜沉积过程中测量速率和厚度。两个传感器输入为标准输入，另外四个传感器输入为可选输入。两个记录器输出提供模拟速度和厚度信号。 传感器输入可分配给不同的材料，在大型系统中平均分配以实现精确的沉积控制，或者配置为双传感器。速率采样模式可在高速率过程中屏蔽传感器，从而延长传感器的使用寿命。速率显示为 0.1Å/s 或 0.01Å/s，用户可自行选择。此外，还可以选择频率或质量显示。凭借四个继电器输入，SQM-160 可控制来源或传感器屏蔽、信号时间和厚度设定点以及信号晶体失效。数字输入允许外部信号启动/停止和归零读数。
STM-2XM 双通道速率/厚度监测仪

薄膜沉积监测仪

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多个应用的简单操作 STM-2XM 是一款双通道速率/厚度监测仪，它将高精度与灵活编程相结合，易于操作，价格实惠。 STM-2XM 配有五种操作模式，可适应从简单到复杂的各种过程。例如，使用简单模式仅监测单一传感器最简单的过程，或使用合金模式进行共沉积监测。独立模式可将 STM-2XM 用作两个完全独立的监测仪。 两个传感器输入可以使用两个单石英晶体传感器或一个双石英晶体传感器。每秒进行 10 次测量，从而实现每次测量 0.037 Å 的分辨率（密度为 1）。 功能丰富 STM-2XM 有八个可编程的数字输入、八个可编程的数字输出以及四个模拟输出，允许通常保留用于更昂贵仪器的集成水平。 可编程的功能包括闸门延迟、时间/功率监测和速率采样。使用所有这些功能可实现最精确的读数和最长的晶体使用寿命。 通过简单的前面板界面或通过随附的 LabVIEW® 软件，运行并监测 STM-2XM。这一简单的软件功能齐全并且易于使用。 易于使用 STM-2XM 配备了高对比度的 LCD 显示屏和直观的菜单系统。整个菜单内均可找到屏幕提示，用于简单的引导式编程和操作。易于阅读的 LCD 可显示累积的质量或厚度
STM-2 USB 薄膜速率/厚度监测仪

薄膜沉积监测仪

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 尺寸小巧，价格低廉，性能强大 STM-2 将 USB 连接的简单与精密测量引擎的精度相结合，在一个结构紧凑、价格便宜的封装内实现所有功能。 STM-2 小巧、简单，方便安装和操作。 出色的性能 STM-2 是行业内最精确的 USB 供电薄膜监测仪。 每秒进行十次测量， 从而实现每次测量 0.037 Å 的分辨率（密度为 1）。 轻松灵活安装 STM-2 附带了将 QCM 传感器/馈入件连接到 Windows® PC 所需的一切附件。只需将随附的 BNC 电缆从馈入件连接到 STM-2，然后使用标准微型 USB 电缆（随附）将 STM-2 连接到您的 PC 即可。无需外部振荡器或电源。 STM-2 配备内部振荡器，当 STM-2 距离石英晶体在 1 米（40 英寸）以内时，可采用这种简单 并且具有成本效益的安装方式。而在 STM-2 必须远离馈入件的应用中，可采用标准 INFICON 振荡器套件。 STM-2 软件 STM-2 附带了 LabVIEW® 软件，该软件支持简单的运行和数据记录。它还附带了 Windows 软件，用于最多八个 STM-2 的同时运行和数据记录（每个 STM-2 需要一个供电的 USB 端口）。
IQM-233 薄膜沉积控制器 PCI-Expr

薄膜沉积控制仪

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在 PCI EXPRESS 卡上实现低成本镀膜控制 IQM-233 PCI Express 卡可使您的 PC 变成薄膜膜厚控制仪。这种由 INFICON 设计和制造的产品是OEM 系统集成商或要将薄膜膜厚控制仪集成到现有 PC 或 PLC 控制系统的所有厂商的理想选择。安装简便—只需您提供一个未占用的 PCI Express 插槽。IQM-233 可安装到标准或小型 PC 机箱中。 无与伦比的功能 IQM-233 可在每个卡上提供三个 QCM 探头输入和三个源输出。单台 PC 上最多可安装两个 IQM-233 卡（需要可选软件IQS-233 ），其最多可提供六个探头输入和六个源输出。只有 INFICON 才能如此灵活地完全实现集成 PC 控制 QCM 探头。 IQM-233 可与 INFICON 振荡器 IPN 782-900-010 兼容，因此更换 SQM-242 卡不需要安装新振荡器。它还与所有 INFICON 单探头和双探头兼容。 选择最适合您的软件解决方案 IQM-233 随附基本 Windows® 软件，用于通过单 IQM-233 卡设置或控制连续镀膜或共镀膜过程。通过可选 IQS-233 共镀膜 Windows® 软件可进行更加复杂的工艺设置，包括多层共镀膜、图型以及PLC与继电器的集成/输入功能。IQS-233 软件最多允许使用两个 IQM-233 卡。 作为希望编写自有软件的客户的备选方案，IQM-233 所包含的 LabVIEW ™ 样板程序可提供基本功能和编程技术的演示。
Cygnus 2 薄膜沉积控制器

薄膜沉积控制仪

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 为 OLED 应用提供最佳测量精度 Cygnus 2 薄膜沉积控制器在 INFICON 薄膜沉积控制器可靠成熟的性能基础上，增添了更多独特的功能，可帮助您实现 OLED 过程的最大价值。Cygnus 2 使用我们 ModeLock 频率测量系统，提供稳定、高分辨率的速率和厚度测量，速率分辨率可达每 1/10 秒 0.00433 Å/s，是行业中的佼佼者。Cygnus 2 具有其他石英晶体控制器无法比拟的性能、品质和功能，赋予您的过程卓越的可重复性。
Guardian EIES 控制器

薄膜沉积控制仪

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 可同时沉积至多八种材料 CIGS 薄膜的理想之选 Guardian 可将沉积速度控制在 0.1 到 10,000 Å/s 范围内。它可以操作一个或两个传感器，最多 8 个光输入，并控制最多 8 个沉积源，因此能够同时沉积最多 8 种材料。 INFICON Guardian 是光伏模块、有机发光二极管、光伏、超导薄膜以及分子束外延制造等应用的理想之选。 Guardian Codeposition 系统基于电子碰撞发射光谱 (EIES)。通过运用 EIES，要沉积的材料在热离子发射体的作用下生热，从而产生光子。    产生的光通过滤光器，到达光电倍增管 (PMT)检测仪，光电倍增管检测仪可以测量通过的波长的发射强度。  然后 INFICON Guardian 控制器产生  信号来控制该材料源。配备了合适滤光器的其它检测仪可用于多种材料。   一套完整的 Guardian 系统至少包括一个传感器、一个 PMT 检测仪、一个滤光器、一个 Guardian 控制器单元以及一台安装了 Guardian 软件的电脑（由用户提供）。    EIES 通常用于控制多种材料的沉积，因此，大多数 EIES 系统还包括其他传感器、检测器、光学器件（例如分裂器）以及 QCM，QCM 用于校准或控制某些材料的沉积速率。    如需关于典型系统的更多信息，请参阅下面的 Downloads（下载）选项卡中的《Guardian 配置指南》。 要配置 Guardian 共沉积系统，需要考虑以下几点 沉积材料的初级和二级发射波长为多少？ 如果不同材料的峰值过于  相近，您可能需要监控二级发射波长，  二级波长的信号强度较弱。 在沉积过程中，真空室中存在哪些本底气体？  这些本底气体的发射波长  是多少？ 如果本底气体的发射干扰了沉积材料，则建议使用气体补偿传感器。 对于特定发射光谱的原子种类，  EIES 是最为有效的。分子种类产生的发射光谱不稳定或者  过宽，无法准确测量。不建议将  EIES 用于有机材料。各个具体应用的  最佳 EIES 系统配置由以上因素及其他因素确定。
前载式双探头

石英晶体探头和馈入件

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INFICON 前装式双晶体传感器拥有经实践检验的可靠性和耐用性，提供超越当前市场上的任何传感器头的最佳热稳定性。双传感器提供备用晶体，对于在真空室中需要第二晶体的关键过程至关重要。 前装式设计允许在侧面插入空间不足的应用中轻松插入晶体支架。经机械装配而成，而不是焊接在一起，因此，您能够在现场方便地更换其部件（如有必要）。传感器可单独订购，或以传感器/馈入件组合的形式订购，该组合可焊接在一起，或通过压缩接头装配在一起。
抽屉式单探头

石英晶体探头和馈入件

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炫酷抽屉单传感器允许晶体从侧面安装到传感器中，为没有足够的空间从前面安装晶体的系统提供了便利。炫酷抽屉单传感器采用炫酷抽屉晶体支架，该晶体支架通过水冷式外壳进行热屏蔽，可确保卓越的晶体性能。
抽屉式双探头

石英晶体探头和馈入件

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炫酷抽屉双传感器设计用于在真空室中需要第二晶体的关键过程。拥有水冷浇铸不锈钢传感器壳体、两个炫酷抽屉晶体支架以及一个气动闸门，可以为坚固耐用的传感器头提供超高的备份晶体可靠性。腔室中没有同轴电缆，可以进行更纯净、更可靠的真空系统安装。
ALD 探头

石英晶体探头和馈入件

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满足 ALD 应用的最佳精度、运行时间以及极低的维护要求 INFICON ALD 探头为原子状态膜层沉积 (ALD) 提供了具石英晶体微天平 (QCM) 测量水准的可靠性、精度和重复性。ALD 探头可承受高达 450 ℃ 的高温，其设计允许探头在严苛的 ALD 应用环境中运行。裸露的晶体电极完全接地，以有效地消除任何潜在的电气干扰问题。 专为 ALD 设计 INFICON ALD 探头的独特性之一便是利用惰性气体（通常为氮气）吹扫晶片背面和探头腔体。这可防止反应室的气体进入探头，并确保晶片背面和电气触点无沉积材料。这种技术可在不适合使用标准 QCM 的系统中实现现场测量。 馈入件和馈入件连接 INFICON ALD 探头可采用自定义焊接长度，也可采用长度可调的压缩接头而无需铜焊或焊接。所有配置都使用 2 ¾ 英寸(CF40) ConFlat® 法兰馈入件。 高温晶片实现更准确的测量 与 INFICON 的新型高温石英晶片结合使用时，INFICON ALD 探头可在高温应用中达到最佳测量精度和较低的频率噪声。这些高温晶片针对 120、240 和 285 ℃ 应用进行了优化，因此您总能获得适合自己应用的正确晶片。也可提供针对其他温度优化过的晶片。请根据自己的需求联系 INFICON。
UHV 可烘烤探头

石英晶体探头和馈入件

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INFICON UHV 可烘烤晶体传感器拥有经实践检验的可靠性和耐用性，提供超越当前市场上的任何传感器头的最佳热稳定性。可烘烤传感器由 304 号不锈钢、钼、铬镍铁合金、镍和氧化铝材料制成，设计为可承受连续烘烤温度高达 450° C（仅适用于烘烤，实际沉积监控需要水流）。前装式设计允许在侧面插入空间不足的应用中轻松插入晶体支架。

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